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半導體/集成電路項目樣例

發(fā)布時間:2010-10-19


以下樣例非最新項目,僅表示內(nèi)容格式。具體到每個項目略有不同。

項目名稱:武漢***半導體制造有限公司弘芯半導體生產(chǎn)基地工程(一期)
項目地址:湖北省武漢市東西湖區(qū)徑河街東流港以東,塔西路以西
總建筑面積330860平方米,項目總投資額2366000萬元,總造價60000萬元。該工程計劃新建廠房,辦公樓,配套設(shè)施,主體為鋼結(jié)構(gòu)。開工時間:2018-08-23完工時間:2020-12-18

業(yè)主單位:武漢***半導體制造有限公司
***,法人,183********
***,高管,027-********
地址:湖北省武漢市東西湖區(qū)徑河街啤磚路51號

項目名稱:上海***半導體有限公司特色工藝生產(chǎn)線建設(shè)項目
項目地址:上海市浦東新區(qū)臨港新城裝備產(chǎn)業(yè)園區(qū),L型地塊東臨妙香路,西至云水路,北至江山路,南到蘆五公路
工程造價:48.60億元
項目主體為鋼結(jié)構(gòu),包含:廠房和配套用房,第一階段:一條8英寸0.11um,6萬片的生產(chǎn)線(其中包括上海先進現(xiàn)有的2.8萬片8英寸產(chǎn)能);一條12英寸65nm,3,000片先進模擬電路先導生產(chǎn)線;一條6英寸0.5萬片寬禁帶SiC,GaN寬禁帶半導體功率器件先導生產(chǎn)線,第二階段:一條12英寸65nm先進模擬電路生產(chǎn)線,生產(chǎn)能力5萬片;優(yōu)化8英寸生產(chǎn)線的產(chǎn)品結(jié)構(gòu),增加IGBT/FRD,TVS等功率器件的產(chǎn)能;擴充SiC,GaN功率器件的產(chǎn)能工程總投資:3590000萬元。開工時間2018-10,竣工時間2022-07

業(yè)主單位:上海***半導體有限公司
***,監(jiān)事,187********
***,法人,187********
地址:中國上海市浦東新區(qū)亮秀路112號Y1座305室

項目名稱:昆山***光電有限公司第6代有源矩陣有機發(fā)光顯示器件(AMOLED)模組生產(chǎn)線工程
項目地址:河北省廊坊市固安縣新興產(chǎn)業(yè)示范區(qū)內(nèi)
該項目總占地面積為667,000平方米,總建筑面積為580,000平方米的工業(yè)發(fā)展,包含:*數(shù)幢1層至4層高的廠房*辦公樓*倉庫
開工時間:2017年06月完工時間:2020年03月

業(yè)主單位:***光電科技有限公司
***,總經(jīng)理,151********
***,法人,138********
地址:河北。ɡ确唬┌灾菔虚_發(fā)區(qū)內(nèi)

項目名稱:******導體(無錫)有限公司集成電路研發(fā)和制造基地項目
建設(shè)地點:江蘇省無錫市新吳區(qū)錫興路以東、新洲路以南、312國道以西地塊;
建設(shè)內(nèi)容:******半導體(無錫)有限公司擬投資700億美元,在無錫市新吳區(qū)錫興路以東、新洲路以南、312國道以西地塊,建設(shè)集成電路研發(fā)和制造基地項目。項目擬分三期進行建設(shè),一期投資25億美元,擬新建一條半導體生產(chǎn)線,主要從事非揮發(fā)性存儲器、先進射頻技術(shù)、高端電源管理等相關(guān)超大規(guī)模集成電路芯片制造;
項目計劃總投資100億美元,一期投資25億美元;
建設(shè)周期:2017-10-30--2020-10-30

業(yè)主單位:上海******半導體制造有限公司
***,總經(jīng)理,021*********,
***,經(jīng)理,189*********,
地址:上海市浦東區(qū)張江高科技園區(qū)哈雷路***號

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